Наноімпринтне обладнання Canon дозволить суттєво знизити витрати на виробництво чипів

Випускаючи на ринок обладнання для виробництва напівпровідників з технологією наноімпринтної літографії (NIL, nanoimprint lithography) на додачу до наявних систем фотолітографії, компанія Canon розширила модельний ряд обладнання для виробництва напівпровідників. Зазначається, що це дасть змогу задовольнити потреби широкого кола користувачів, охоплюючи як найсучасніші напівпровідникові прилади, так і вже наявні пристрої.

На відміну від звичайного фотолітографічного обладнання, яке переносить малюнок схеми, проектуючи його на вкриту резистом пластину, нове рішення робить це, притискаючи маску з надрукованим на резисті малюнком схеми до пластини, як штамп. Завдяки тому, що процес перенесення малюнка схеми не проходить через оптичний механізм, тонкі малюнки схеми на масці можуть бути точно відтворені на напівпровідниковій пластині. Таким чином, складні дво- або тривимірні схеми можуть бути сформовані в одному відбитку, що дає змогу знизити вартість володіння.

Технологія NIL компанії Canon дає змогу створювати малюнки з мінімальною шириною лінії 14 нм, що еквівалентно 5-нм вузлам, необхідним для виробництва більшості сучасних логічних напівпровідників, які є зараз. Крім того, очікується, що при подальшому вдосконаленні технології виготовлення масок NIL дасть змогу створювати схеми з мінімальною шириною лінії 10 нм, що відповідає вузлу 2 нм.

У новинці застосовано нову технологію контролю довкілля, що пригнічує забруднення обладнання дрібними частинками. Це дає змогу забезпечити високоточне вирівнювання, необхідне для виробництва напівпровідників зі зростальною кількістю шарів, і зменшити кількість дефектів, спричинених дрібними частками, а також дає змогу формувати тонкі та складні схеми, сприяючи виробництву сучасних напівпровідникових приладів.

Оскільки новий продукт не вимагає джерела світла зі спеціальною довжиною хвилі для формування тонких схем, він дає змогу значно знизити енергоспоживання, як порівняти з обладнанням для фотолітографії найсучасніших логічних напівпровідників (5-нм вузли з шириною лінії 15 нм), сприяючи тим самим скороченню викидів CO2. За оцінками аналітиків, енергоспоживання випущеного Canon апарату FPA-1200NZ2C на порядок менше, ніж комплексу EUV виробництва ASML. При цьому очікується, що приблизно так само співвідноситимуться і ціни цих платформ.

Новий продукт може бути використаний у широкому спектрі застосувань, наприклад, для виготовлення металевих лінз для ХР з мікроструктурою в десятки нанометрів, а також логічних та інших напівпровідникових приладів.

Ready, set, buy! Посібник для початківців - як придбати Copilot для Microsoft 365